【摘 要】
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Damon-Eshbach (DE)模自旋波是沿面内传播的表面自旋波,其特殊的传播特性对制备、实现自旋波基自旋电子学器件具有重要意义.Münzenberg等[4]利用时间分辨纵向磁光克尔光谱技
【机 构】
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光电材料与技术国家重点实验室,物理科学与工程技术学院,中山大学,广州,510275
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Damon-Eshbach (DE)模自旋波是沿面内传播的表面自旋波,其特殊的传播特性对制备、实现自旋波基自旋电子学器件具有重要意义.Münzenberg等[4]利用时间分辨纵向磁光克尔光谱技术研究了不同厚度Ni金属薄膜中自旋波模,发现随着外加磁场减小频率接近的自旋波模出现模式竞争的现象.此外,他们认为DE模自旋波的产生与金属薄膜厚度有关[4,5].DE模自旋波只有满足薄膜厚度远大于激光穿透深度这一条件时才被激发出,这也是厚度小于100nm的Ni薄膜中没能观测到DE模自旋波的原因[4].然而,Cheng等[6]利用时间分辨极向磁光克尔光谱技术研究了Heusler合金Co2Fe1-xMnxAl中自旋波模,发现在30nm厚度薄膜样品中可以观测到DE模自旋波.这表明DE模自旋波的产生并不一定需要满足薄膜厚度远大于激光穿透深度的条件,也说明了目前尚未完全清楚DE模自旋波的产生条件.
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