【摘 要】
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系统研究了飞秒激光沉积硅基氧化锌薄膜过程中的各种工艺参数,实验结果表明当衬底温度为80℃、激光能量为1.5mJ、真空度为10-4Pa 时,所制备的薄膜质量最佳,X 射线衍射(XRD)结果
【机 构】
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华中科技大学武汉光电国家实验室和光电子科学与工程学院,武汉430074
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系统研究了飞秒激光沉积硅基氧化锌薄膜过程中的各种工艺参数,实验结果表明当衬底温度为80℃、激光能量为1.5mJ、真空度为10-4Pa 时,所制备的薄膜质量最佳,X 射线衍射(XRD)结果表明ZnO 薄膜呈高度c 轴取向,随着基片温度的升高,c 轴取向度降低,而ZnO(103)衍射峰增强,通过场发射扫描电子显微镜(FSEM)对薄膜表面形貌进行了观察,结果表明所制备的薄膜晶粒均匀,晶粒大小在50nm 左右。
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