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光致抗蚀剂薄膜在光刻掩膜制作中的应用
光致抗蚀剂薄膜在光刻掩膜制作中的应用
来源 :第七届全国固体薄膜学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:louism123
【摘 要】
:
该文介绍光致抗蚀剂薄膜在光刻掩模制作中的一种新的应用,即用光致抗蚀剂薄膜来制作光刻用的衰减相移掩模。介绍这种新方法的原理和制作工艺,并将制作的光致抗蚀剂衰减相移掩模
【作 者】
:
侯德胜
孙方
【机 构】
:
中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室(成都)
【出 处】
:
第七届全国固体薄膜学术会议
【发表日期】
:
2000年期
【关键词】
:
光致抗蚀剂
薄膜
光刻分辨力
掩膜制作
衰减相移掩模
制作工艺
掩模制作
实验
激光投影
光刻曝光
准分子
新方法
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该文介绍光致抗蚀剂薄膜在光刻掩模制作中的一种新的应用,即用光致抗蚀剂薄膜来制作光刻用的衰减相移掩模。介绍这种新方法的原理和制作工艺,并将制作的光致抗蚀剂衰减相移掩模用于krF准分子激光投影光刻曝光实验,得出了显著提高光刻分辨力的实验结果。
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