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提高金属蒸汽真空弧(Metal vapor vacuum arc,MEVVA)离子源注入机的注入效率,大幅度降低注入成本是MEVVA源离子注入技术实用化的关键.为此开展了100型MEVVA源注入机大批量注入均匀性的研究.本文介绍了100型MEVVA源注入机的靶室结构和靶盘分布,研究了靶盘公转自转、0°定位自转、45°定位自转的注入离子浓度分布.之后通过对几种注入方式的拟合计算来确定复合注入的注入比例.最后通过实验研究了靶盘不同运动状态的复合注入,得到了相当均匀的注入效果.