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微小等离子体(微放电)具有尺度小，功耗低、密度高以及可在较高的气压下工作等优点，将其作为微等离子体源用于材料表面的无掩膜刻蚀加工，具有很好的应用潜力而得到各国学者的广泛关注。但目前文献报道中的微小等离子体无掩膜刻蚀方法存在的主要缺点是：刻蚀精度不高(数十～数百um)，难以批量阵列化制作，不适合加工复杂图形。本文提出了一种新的微等离子体无掩膜刻蚀加工方法，即将具有倒金字塔结构的微放电器集成在悬臂梁探针的针尖上，等离子体通过针尖处的纳米孔导出，在不同的气体氛围下，通过样品和针尖之间的相对扫描，即可实现对不同材料的无掩膜反应离子刻蚀。该方法具有纳米级加工精度，刻蚀速率快，能利用MEMS工艺批量阵列化制作，可加工出任意的复杂图形。