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原子层沉积技术因其连续性、一致性和自限制性等特点,可用于进行原子尺度可控的薄膜生长。传统原子层沉积生长速率相对较慢,从而限制了其工业应用范围。空间隔离原子层沉积技术通过在空间上不同区域连续通入气流,基底连续运动至各区域进行两个隔离的半反应,可作为一种高产量和高效率的薄膜沉积改进方案。诸多研究者已开发出不同结构尺寸、进样方式、工艺条件的空间隔离原子层沉积设备,并已基于各自系统做了部分常压工艺研究。然而,关于反应物隔离、产量、前驱体利用率与操作工艺参数间关联的系统化研究仍然较少报道。