存储环境对硅片表面时间依赖性雾的影响研究

来源 :2014`全国半导体器件产业发展、创新产品和新技术研讨会暨第七届中国微纳电子技术交流与学术研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:kary_yeah
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  硅片表面时间依赖性雾(Time Dependent Haze,TDH)是硅抛光片经过清洗及检测过程,存放在密封聚丙烯存储盒内一段时间后,在硅片表面形成的高度集中的呈雾状分布的颗粒.TDH的形成一般需要很长时间,而且它的存在具有不稳定性,在硅片生产存放过程中出现TDH后,不能在有效时间内找到其产生原因,会对生产造成极大损失,对硅片生产厂家来说不能也保证硅片有效保质期.由于TDH的形成一般是在后续的存放过程,不能对它的产生进行提前预知,因而对于其产生原因的分析具有重要的指导意义.
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