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ＳｉＣｌ<,4>氨解法制备高α相的Ｓｉ<,3>Ｎ<,4>粉的研究
【机 构】
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清华大学
【出 处】
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’94全国结构·功能陶瓷·金属/陶瓷封接学术会议
【发表日期】
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1994年期
其他文献
该文以氮化硅（Ｓｉ〈，３〉Ｎ〈，４〉）为主要成分，通过轧膜工艺制成薄片，以此模仿珍珠支中的霰石晶片层，将氮化硼（ＢＮ）和氧化铝（Ａｌ〈，２〉Ｏ〈，３〉）按一定配比制成悬浮液，涂覆在轧膜片上，以模仿珍珠层的有机基质层