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SiCl<,4>氨解法制备高α相的Si<,3>N<,4>粉的研究
【机 构】
:
清华大学
【出 处】
:
’94全国结构·功能陶瓷·金属/陶瓷封接学术会议
【发表日期】
:
1994年期
其他文献
该文以氮化硅(Si〈,3〉N〈,4〉)为主要成分,通过轧膜工艺制成薄片,以此模仿珍珠支中的霰石晶片层,将氮化硼(BN)和氧化铝(Al〈,2〉O〈,3〉)按一定配比制成悬浮液,涂覆在轧膜片上,以模仿珍珠层的有机基质层