大气等离子体技术在阻隔领域的应用综述

来源 :中国食品科学技术学会第十一届年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:lialiaoliao
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  大气等离子体技术因无需真空、工艺简单、操作方便,具有广阔的应用前景。特别是在真空下才能完成的镀膜工艺,如果能在大气状态下完成,不但节省工艺成本,还可在不同的材料基材上完成薄膜的制备,从而大大扩展了镀膜工艺的应用范围。本文主要针对真空沉积技术依赖程度较高的阻隔薄膜领域,例如各种铝塑薄膜、氧化硅、类金刚石等具有优良阻隔性能的薄膜,综述了大气等离子体技术在此方向的研究情况,为将来阻隔市场的发展提供更广阔的发展和应用空间。
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