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大气等离子体技术因无需真空、工艺简单、操作方便，具有广阔的应用前景。特别是在真空下才能完成的镀膜工艺，如果能在大气状态下完成，不但节省工艺成本，还可在不同的材料基材上完成薄膜的制备，从而大大扩展了镀膜工艺的应用范围。本文主要针对真空沉积技术依赖程度较高的阻隔薄膜领域，例如各种铝塑薄膜、氧化硅、类金刚石等具有优良阻隔性能的薄膜，综述了大气等离子体技术在此方向的研究情况，为将来阻隔市场的发展提供更广阔的发展和应用空间。