【摘 要】
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通过结合传统的无模板光刻技术、反应离子刻蚀工艺及金属物理沉积技术的方法,制备出大面积、高度有序、表面修饰银纳米颗粒的小尺寸锥状Si阵列。这种锥状Si阵列的锥的密
【机 构】
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功能纳米与软物质研究院及苏州纳米科技协同创新中心,苏州大学,江苏省苏州市工业园区仁爱路199号,215123
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通过结合传统的无模板光刻技术、反应离子刻蚀工艺及金属物理沉积技术的方法,制备出大面积、高度有序、表面修饰银纳米颗粒的小尺寸锥状Si阵列。这种锥状Si阵列的锥的密度可以达到每立方微米50个锥状结构。表面修饰银纳米颗粒的小尺寸锥状Si阵列显示出超灵敏的表面增强拉曼效应,在使用罗丹明6G作为检测分子,其浓度在10-15M的情况下,表面增强拉曼的增强因子达到1013,并且具有很好的均一性。这种表面增强拉曼基底对苏丹红I分子也有超灵敏的表面增强拉曼效应。此外,用此方法制备出的金/银双金属纳米颗粒装饰的锥状Si阵列也表现出相当高表面增强拉曼效应,并呈现出很高的稳定性,即使存储一个月后也可以保持原有的拉曼增强效果。
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