【摘 要】
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采用火焰水解法(FHD)在Si基上淀积SiO预制材料，然后在真空中/空气气氛中高温处理(1380℃)，制得玻璃化的SiO膜材料；该材料膜厚适中(10～30μm)、平整度好、光滑透明，适合制作单模、
【机 构】
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吉林大学电子工程系光电子国家重点实验室(长春)
【出 处】
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全国化合物半导体.微波器件和光电器件学术会议
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采用火焰水解法(FHD)在Si基上淀积SiO<,2>预制材料，然后在真空中/空气气氛中高温处理(1380℃)，制得玻璃化的SiO<,2>膜材料；该材料膜厚适中(10～30μm)、平整度好、光滑透明，适合制作单模、多模列阵平面波导光栅。并利用XRD、SEM、台阶仪等仪器对SiO<,2>膜进行了测试分析。
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