利用碗状悬空掩膜加工侧壁光滑垂直的微纳结构

来源 :中国物理学会2016年秋季会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户：yangqimeng2008

【摘要】

：

紫外曝光和电子束曝光等所用传统掩膜一般都平铺在基底上.当用反应离子刻蚀(RIE)和电感耦合等离子体刻蚀(ICP)等干法刻蚀方法对基底进行刻蚀的时候,气体的轰击作用会使掩膜面积缩小,掩膜边缘损坏,变得粗糙不平1,2,3.这不仅会导致刻蚀出来的样品陡直度降低,还会导致样品形状变形,出现侧壁条纹等现象4,5.

【作者】

：

陈东学刘前

【机构】

：

北京大学物理学院,北京 100871 国家纳米科学中心,北京,100190

【出处】

：

中国物理学会2016年秋季会议

【发表日期】

：

2016年5期

【关键词】

：

紫外曝光碗状悬空掩膜干法刻蚀边壁效应

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