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氧化—削尖自对准多层金属栅的工艺研究
氧化—削尖自对准多层金属栅的工艺研究
来源 :第五届全国场致发射学术讨论会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:sysu_allan
【摘 要】
:
真空平板显示器的底板主要由场发射阴极和金属栅极构成。该文报告了Ti-W-Au三层金属栅极代替过去的铝栅,解决了栅与绝缘层SiO的附着问题和金属离子迁移问题从而便于压焊引线。该文报告了
【作 者】
:
朱长纯
淮永健
【机 构】
:
西安交通大学
【出 处】
:
第五届全国场致发射学术讨论会
【发表日期】
:
1994年期
【关键词】
:
氧化削尖
自对准
多层金属栅
平板显示器
栅极
迁移问题
金属离子
附着问题
报告
绝缘层
场发射
真空
引线
阴极
三层
铝栅
构成
工艺
底板
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真空平板显示器的底板主要由场发射阴极和金属栅极构成。该文报告了Ti-W-Au三层金属栅极代替过去的铝栅,解决了栅与绝缘层SiO<,2>的附着问题和金属离子迁移问题从而便于压焊引线。该文报告了氧化削尖对准工艺解决了栅阴套准的问题。
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