【摘 要】
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引言目前,脉冲放电等离子体在工业生产和实验室研究中正在获得越来越多的应用.与稳态放电等离子体相比,磁控溅射沉积工艺中使用脉冲放电能够抑制弧光放电、靶中毒、阳极消失
【机 构】
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大连理工大学物理与光电工程学院,三束材料改性教育部重点实验室辽宁大连
【出 处】
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第十六届全国等离子体科学技术会议暨第一届全国等离子体医学研讨会
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引言目前,脉冲放电等离子体在工业生产和实验室研究中正在获得越来越多的应用.与稳态放电等离子体相比,磁控溅射沉积工艺中使用脉冲放电能够抑制弧光放电、靶中毒、阳极消失等问题,并显著提高沉积速率;刻蚀过程使用脉冲调制的射频放电,可以根据需要灵活调控离子的输运、提高刻蚀效率和精度;等离子体材料表面改性过程中使用脉冲放电能够有效抑制起弧,避免工件烧蚀和降低电源功耗等.因此,研究脉冲放电等离子体的物理过程和特点具有十分重要的意义.
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