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本文建立一个更为严格的描述电子散射过程的物理模型,在此基础上运用蒙物卡罗方法模拟电子在靶体PMMA-Si衬底中的复杂散射过程,并通过大量计算研究不同曝光条件对胶中沉积能密度分布的影响,给出模拟得到的电子散射轨迹图及沉积能密度分布结果.
蒙特卡罗方法模拟电子束曝光
【摘 要】
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本文建立一个更为严格的描述电子散射过程的物理模型,在此基础上运用蒙物卡罗方法模拟电子在靶体PMMA-Si衬底中的复杂散射过程,并通过大量计算研究不同曝光条件对胶中沉积能
【机 构】
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中国科学院微电子中心微光刻实验室(北京)
【出 处】
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第十一届全国电子束、离子束、光子束学术年会
【发表日期】
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2001年期
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