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真空等离子体镀膜已经几乎遍布各个行业,从个人生活中的眼镜到高科技领域的半导体、航空航天都需要等离子体镀膜。等离子体镀膜的核心工具是等离子体激励系统(包括电源和等离子体源)。等离子体产生基于电场、磁场或磁场电场耦合。为了获得高密度等离子体或瞬间更高密度等离子体一般需要电源和磁场创新设计。本文介绍一些高密度等离子体激励、维持、输运过程中的电、磁耦合效应及其应用,如高电流脉冲电弧的外磁场和自磁场利用、高功率脉冲磁控的内外磁场优化与配合、电场和磁场耦合的电弧斑点控制以及高密度辉光放电等等。希望能对真空镀膜的装备结构设计、工艺优化提供一些有益的借鉴。