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本文利用射频磁控溅射方法,在Si基片和玻璃基片上制备Al3+掺杂浓度10%-40%的ZnO薄膜,并测试了薄膜的透射谱和光致发光谱.随着Al3+掺杂浓度的提高,ZnO薄膜的吸收边向短波长方向蓝移;当Al3+掺杂浓度达到20%以后,吸收边基本稳定在314nm左右;光致发光谱中,在355nm附近有很强的紫外发射,深能级发光峰的位置随着Al3+掺杂浓度的不同有所差异.