硅片抛光雾的分析研究

来源 :第九届全国半导体集成电路、中国有色金属学会硅材料学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:baslove
下载到本地 , 更方便阅读
声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架
论文部分内容阅读
该文通过试验分析了抛光雾产生的机理和影响因素;并在试验的基础,优化选择了抛光工艺技术,有效地控制了抛光雾,取得较好的经济效益和社会效益。
其他文献
玉米种子发芽试验,其发芽床一般采用砂床或毛巾卷法,由于采用砂做发芽床,要掌握好水分有一定难度,并要经常加水;毛巾卷法也存在数取已发芽种子不便,通透性差等弊端。为了探讨
会议
会议
该文分析研究了硅单晶片新生晶面的电荷性质、化学吸附转化为物理吸附、有害吸附转化为无害吸附;减少亚损伤。