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本研究采用等离子增强化学气相沉积(PECVD)方法成功地沉积出掺杂(主要是磷、硼)纳米硅(nc-Si:H)薄膜.利用高分辨电镜(HREM)、Raman散射、X射线衍射(XRD)、俄歇电子谱(AES)和共振核反应(RNR)等手段对掺入不同杂质(主要是磷、硼)后的纳米硅薄膜的微结构进行系统的研究.
掺杂纳米硅薄膜微结构的研究
【摘 要】
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本研究采用等离子增强化学气相沉积(PECVD)方法成功地沉积出掺杂(主要是磷、硼)纳米硅(nc-Si:H)薄膜.利用高分辨电镜(HREM)、Raman散射、X射线衍射(XRD)、俄歇电子谱(AES)和
【机 构】
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北京航空航天大学理学院材料物理与化学研究中心(北京)
【出 处】
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2000年中国博士后学术会议
【发表日期】
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2000年期
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