【摘 要】
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本文自行研制了一套可控变温样品室装置，对硅纳米晶薄膜进行加热实验，并基于洛伦兹色散模型，对实验获得的椭偏参数进行拟合，得到不同温度下的nc-Si和SiO2的复合层折射率随温度的变化关系。实验结果表明镶嵌在二氧化硅中的硅纳米晶在不同温度下，椭偏参数有规律的变化。发合膜层的光学折射率n随着温度的升高有线性增大趋势。这些数据在硅基微纳光子学器件的研究中有参考价值。
【机 构】
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复旦大学光科学与工程系，微纳光子结构教育部实验室，上海邯郸路220号科学楼，200433
【出 处】
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长三角地区科技论坛激光分论坛暨上海市激光学会2011年学术年会
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本文自行研制了一套可控变温样品室装置，对硅纳米晶薄膜进行加热实验，并基于洛伦兹色散模型，对实验获得的椭偏参数进行拟合，得到不同温度下的nc-Si和SiO2的复合层折射率随温度的变化关系。实验结果表明镶嵌在二氧化硅中的硅纳米晶在不同温度下，椭偏参数有规律的变化。发合膜层的光学折射率n随着温度的升高有线性增大趋势。这些数据在硅基微纳光子学器件的研究中有参考价值。
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