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本文针对硅微尖锥阴极微纳加工工艺、场发射性能优化及相关物理机理开展研究,为提高硅微尖锥场发射阴极的可靠性、阵列中尖锥的场发射均匀性和发射电流强度/密度提供技术途径和理论参考.
硅微尖锥场发射阴极的微纳加工工艺及性能优化研究
【摘 要】
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本文针对硅微尖锥阴极微纳加工工艺、场发射性能优化及相关物理机理开展研究,为提高硅微尖锥场发射阴极的可靠性、阵列中尖锥的场发射均匀性和发射电流强度/密度提供技术途径
【机 构】
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中山大学 光电材料与技术国家重点实验室 广东省显示材料与技术重点实验室 物理科学与工程技术学院 广州510275
【出 处】
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中国电子学会真空电子学分会第十九届学术年会
【发表日期】
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2013年期
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