【摘 要】
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利用真空镀膜方法以gg.gg％的TiO2粉末为镀膜材料,在不同的沉积速率下,在玻璃衬底上制备TiO2薄膜.利用台阶仪、X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)对制备的TiO2薄膜性能进行了表征.讨论了不同退火温度对TiO2薄膜结构的影响.结果表明:在镀膜速率为4A/sec条件下制备的TiO2薄膜,膜厚为200nm的样品,在室温条件下,具有无定形结构.450℃退火1h后呈现锐钛矿晶体结构.所得T
【出 处】
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中国感光学会第八届五次理事会暨2013年学术年会
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利用真空镀膜方法以gg.gg％的TiO2粉末为镀膜材料,在不同的沉积速率下,在玻璃衬底上制备TiO2薄膜.利用台阶仪、X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)对制备的TiO2薄膜性能进行了表征.讨论了不同退火温度对TiO2薄膜结构的影响.结果表明:在镀膜速率为4A/sec条件下制备的TiO2薄膜,膜厚为200nm的样品,在室温条件下,具有无定形结构.450℃退火1h后呈现锐钛矿晶体结构.所得TiO2薄膜均匀,与玻璃片基结合度较好.
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