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以显微镜载玻片为衬底,采用超声雾化喷涂(USP)化学气相沉积(CVD)工艺制备出SnO<,2>:Sb薄膜.对衬底温度,方块电阻进行了研究.用X射线衍射方法分析了在同一温度下,不同Sb掺杂浓度的膜的结构.采用AFM分析了SnO<,2>:Sb的表面形貌.
采用USP-CVD沉积SnO:Sb透明导电膜
【摘 要】
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以显微镜载玻片为衬底,采用超声雾化喷涂(USP)化学气相沉积(CVD)工艺制备出SnO:Sb薄膜.对衬底温度,方块电阻进行了研究.用X射线衍射方法分析了在同一温度下,不同Sb掺杂浓度的膜的结构.采用AFM分析了SnO:Sb的表面形貌.
【机 构】
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上海交通大学物理系太阳能研究所(上海)
【出 处】
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2003年中国太阳能学会学术年会
【发表日期】
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2003年6期
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