【摘 要】
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采用带有高效分散设备的磁控溅射设备在粒径为几十微米的粉煤灰空心微珠表面镀上了均匀、光滑、与空心微珠表面结合牢固的纳米铜膜。采用高性能光学显微镜和扫描电子显微镜对已镀膜空心微珠进行了观察,并对不同功率下所镀铜膜的厚度和不同功率情况下所镀铜膜的XRD分析。利用XPS对所镀铜膜的质量进行多层刻蚀研究表明,采用该方法所镀的铜膜内部质量均匀、性质稳定。采用该方法镀膜的空心微珠将在导电、反光材料的制备过程中发
【机 构】
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北京有色金属研究总院,北京 100088 北京航空航天大学粉体技术重点实验室,北京 100083
【出 处】
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第八届全国颗粒制备与处理学术和应用研讨会
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采用带有高效分散设备的磁控溅射设备在粒径为几十微米的粉煤灰空心微珠表面镀上了均匀、光滑、与空心微珠表面结合牢固的纳米铜膜。采用高性能光学显微镜和扫描电子显微镜对已镀膜空心微珠进行了观察,并对不同功率下所镀铜膜的厚度和不同功率情况下所镀铜膜的XRD分析。利用XPS对所镀铜膜的质量进行多层刻蚀研究表明,采用该方法所镀的铜膜内部质量均匀、性质稳定。采用该方法镀膜的空心微珠将在导电、反光材料的制备过程中发挥其独特的作用。
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