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硅碳氮薄膜的纳米硬度研究
硅碳氮薄膜的纳米硬度研究
来源 :第四届中国功能材料及其应用学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:lv_yj
【摘 要】
:
采用射频反应溅射工艺分别在含氟气氛中溅射SiC靶和在含碳气氛中溅射SiN靶制备了两种无定形硅碳氮薄膜.通过NanoIndenter XP型显微硬度分析仪来测量薄膜的硬度.分析了薄膜硬
【作 者】
:
彭晓峰
宋力昕
乐军
胡行方
【机 构】
:
中国科学院上海硅酸盐研究所(上海)
【出 处】
:
第四届中国功能材料及其应用学术会议
【发表日期】
:
2001年期
【关键词】
:
硅碳氮薄膜
薄膜的力学性能
显微硬度
溅射工艺
组成结构
射频反应
薄膜硬度
无定形
碳气氛
分析仪
靶制备
氟气
测量
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采用射频反应溅射工艺分别在含氟气氛中溅射SiC靶和在含碳气氛中溅射Si<,3>N<,4>靶制备了两种无定形硅碳氮薄膜.通过NanoIndenter XP型显微硬度分析仪来测量薄膜的硬度.分析了薄膜硬度与其组成结构的关系,结果表明Si-C键对薄膜的力学性能起主要作用.
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