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特殊的暴露晶面可以更精确地评价半导体光催化剂的表面性质，从而进一步可控地优化催化剂的光催化活性[1-2]。近年来，暴露晶面及其改性得到了广泛的研究。本文硝酸铋和偏钒酸铵为原料，以氧化石墨烯(GO)为碳源并控制其与钒酸铋的质量百分比，采用水热法制备C 修饰的BiVO4(简称C/BVO)。
以氧化石墨烯为碳源对钒酸铋晶面改性的研究
【摘 要】
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特殊的暴露晶面可以更精确地评价半导体光催化剂的表面性质，从而进一步可控地优化催化剂的光催化活性[1-2]。近年来，暴露晶面及其改性得到了广泛的研究。本文硝酸铋和偏钒
【机 构】
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福州大学光催化研究所,福建省福州市350002
【出 处】
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第十四届全国太阳能光化学与光催化学术会议
【发表日期】
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2014年期
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