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该研究采用离子束辅助沉积技术（ＩＢＡＤ）技术，选用不同的轰击能量、束流沉积了Ｔｉ单质膜、ＴｉＮ陶瓷膜，通过测定薄膜的微观结构、表面形貌及性能，探讨了轰击粒子在成膜过程中的作用及机理。
轰击参数与Ｔｉ、ＴｉＮ薄膜微观结构及性能的关系
【摘 要】
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该研究采用离子束辅助沉积技术（ＩＢＡＤ）技术，选用不同的轰击能量、束流沉积了Ｔｉ单质膜、ＴｉＮ陶瓷膜，通过测定薄膜的微观结构、表面形貌及性能，探讨了轰击粒子在成膜过程中的作用及机理。
【机 构】
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清华大学
【出 处】
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’94秋季中国材料研讨会
【发表日期】
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1994年期
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