汽相沉积相关论文
本文采用低压MOCVD技术生长了AlGaN/GaN、AlGaN/AlN等多种交替生长结构的半导体多层膜分布布拉格反射镜(DBR)。利用X射线衍射、扫......
光纤预制棒产品的稳定性一直是预制棒生产商关注的焦点。将SiCl4和GeCl4这两种在整个预制棒制造过程中十分关键的原料精确、稳定地......
波分复用传输系统工作波段已经覆盖了C 波段,L 波段。当单信道速率升级到40Gb/s 及以上时,色散成为严重影响系统传输性能的主要因素......
本论文系统的介绍了利用常压汽相沉积(CVD)技术在线制各Sb掺杂SnO2低辐射薄膜的研究,结果表明用在线CVD法可以有效的实现在SnO2中......
该研究使用了有机金属化合物汽相沉积(MOCVD)技术制备的高质量GaXInl-XP发光材料。研究结果表明,GaxInl-XP的直接向间接跃迁的转变点为X......
用等离子体汽相沉积方法合成了硼掺杂C〈,60〉薄膜,通过红外紫外-可见吸收谱初步分析了掺杂C〈,60〉薄膜的结构及特性。......
该文通过朗缪尔探针、法位第筒及等离子体发光光谱诊断对ECR等离子体特性进行了实验研究.(1)发现了一个与ECR共振层位置有关的等离......
该论文作者从1994年开始,集中精力进行了β-CN的合成制备工作,先后采用热丝辅助射频溅射技术和等离子体增强化学汽相沉积技术成功......
介绍一种用于机载电子设备上的新型高分子材料Parylene的汽相成膜过程和优良的防护性能。
A vapor deposition process and excel......
研究了汽相沉积过程中的衬底表面结构的成核热力学,计算了平面与凹结构内的临界核形成能,表明与平面相比成核优先在凹结构发生。指出......
利用计算机模拟给出汽相沉积薄膜的过程,计算出不同模型下的薄膜微观结构,并对薄膜微观结构特征进行了讨论。......
有 Ni/Ti/Si 结构的底层被用来作为碳来源与 CH4 气体由热化学蒸汽免职在 CNT 顶上与一部石墨电影种垂直的碳 nanotubes (CNT ) 。......
开发了一种全新的等离子增强化学汽相沉积氧化硅和氧化硅薄膜制作并首次将其成功地用于半导体功率器件芯片的钝化工艺,提高和保证了......
本文介绍了一种制备硒化锌透光多晶的新工艺,即淀积-热压工艺。该工艺既保留了传统热压工艺和汽相淀积工艺的各自优点,又排除了两......
本文研究了热灯丝射频等离子体CVD法合成的立方氮化硼薄膜,反应气体是B2H6和NH3,衬底材料为Si单晶。通过扫描电镜、红外吸收谱和X射线衍射分析指出......
本发明公开了一种制备适用于沉积在彩色电视显象管等的荧光屏上的复合汽相沉积膜的制备方法,在该膜中,一侧有高光反射率,而另一侧有吸......
<正>The vapor deposition chemical reaction processes, which are of extremely extensive applications, can be classified a......
作为新一代的半导体材料,SiC具有优良的化学物理性质,因此,SiC薄膜的制备工艺也越来越受到人们的关注。本文主要对当前SiC薄膜的制备......
<正>Introduction Indium tin oxide (ITO) film has been widely used as a transparent conductor due to its high transparenc......
Optical and Electrical Properties of Polyimide Thin Films Doped-Cu-phthalocyanine Polymerized by Vap
Using Cu-phthalocyanine (CuPc), 4,4'-diaminodiphenyl ether and pyromellitic dianhydride as monomer materials, polyim......
碳化锆——碳的复合物是在含有甲基碘和海绵锆之间的反应所产生的气体的气流中被沉积出来的。明显的沉积发生在1000℃以上。发现锆......
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本文根据化学热力学平衡理论,建立了完整的计算方法,对MOCVD TMG-AsH_3-H_2和TMG-AsH_3-He体系的均相与异相化学反应平衡条件下42......
本文叙述用化学汽相沉积法制备微波电子管灯丝用氧化铝涂层及这种灯丝在各种运用场合下的试验性能。按照热化学反应的一般理论并结......
<正> 化学汽相淀积(CVD)用硅源气体通常有4种:硅烷(SiH_4);二氯硅烷(SiH_2Cl_2);三氯硅烷(SiHCl_3)和四氯化硅(SiCl_4)。硅烷是CVD......
<正> 近几年来,英国开始发展经过两道汽相沉积工序加工而成的薄硅(≤20微米)保护膜和采用溶胶技术制成的陶瓷保护膜(同样厚度)。这......