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该文分析了研究了亲水键合法存在的问题，发明了硅／锗／硅合新方法。试验研究了新方法的机理、键合工艺技术和键合强度，键合率以及与亲水键合方法的对比。
硅/锗/硅键合新技术的研究
【摘 要】
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该文分析了研究了亲水键合法存在的问题，发明了硅／锗／硅合新方法。试验研究了新方法的机理、键合工艺技术和键合强度，键合率以及与亲水键合方法的对比。
【机 构】
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工业大学微电子研究所
【出 处】
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1998年全国半导体硅材料学术会议
【发表日期】
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1998年期
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