基于BODIPY的新型光响应荧光染料

来源 :中国化学会第29届学术年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:nev0618
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  光响应的染料分子对于记忆器件、分子开关、分子机器等的开发具有非常重要的意义.光响应染料分子通常是通过将光敏感基团与染料分子结合到一起来实现的.Lehn等[1]发现吡啶腙基团在紫外光照射下能够有效地发生顺反的转变.我们利用3,5位氯代的BODIPY易发生亲核取代反应的特点对其进行修饰,引入了吡啶腙基团,从而得到了一种新型的光响应的BODIPY染料.我们通过合成直接得到的产物为反式的1-Z(最大发射峰在566nm),1-Z在紫外光的照射下,C=N双键能够有效地发生构型的转变,变为顺式的1-E,吸收光谱红移约10nm,荧光被淬灭.再进一步通过酸碱的调控变回反式,荧光恢复.总之,我们通过在BODIPY上引入吡啶腙基团得到了一种新型的光响应的染料.
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