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本文介绍了锑化铟表面吸附物的控制技术，从化学机械抛光和清洗两个过程来控制锑化铟表面的吸附物。通过大量实验提出了优化方案，确定了碱性条件下的最佳CMP工艺参数，获得了在优化的pH值、压力、温度、浓度、转速及流量等条件下的最佳抛光效果，得到了较好的表面状态和较低的表面粗糙度。
InSb CMP超精密加工表面吸附物控制技术研究
【摘 要】
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本文介绍了锑化铟表面吸附物的控制技术，从化学机械抛光和清洗两个过程来控制锑化铟表面的吸附物。通过大量实验提出了优化方案，确定了碱性条件下的最佳CMP工艺参数，获得了
【出 处】
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2011全国光电子与量子电子学技术大会
【发表日期】
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2011年期
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