【摘 要】
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用金属有机物化学沉积(MOCVD)设备生长薄膜材料,通常需要各种源材料以及携带气体.源材料包括金属有机源(MO源)和氨气等气体源,两种反应物混合携带气体后分别通入生长室,在衬底上均匀混合,生成所需要的化合物.源材料通入方式的不同,决定不同的气流模式,所以设备顶棚匀气系统也是MOCVD设备的核心技术,世界上主流MOCVD设备公司如Aixtron、Veeco的设备顶棚均有自己的技术及特点.
【机 构】
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广东省中科宏微半导体设备有限公司,广州510530
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用金属有机物化学沉积(MOCVD)设备生长薄膜材料,通常需要各种源材料以及携带气体.源材料包括金属有机源(MO源)和氨气等气体源,两种反应物混合携带气体后分别通入生长室,在衬底上均匀混合,生成所需要的化合物.源材料通入方式的不同,决定不同的气流模式,所以设备顶棚匀气系统也是MOCVD设备的核心技术,世界上主流MOCVD设备公司如Aixtron、Veeco的设备顶棚均有自己的技术及特点.
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