新型带状电子注电子光学系统的研制进展

来源 :中国电子学会真空电子学分会第十七届学术年会暨军用微波管研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:vecent
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开展了W波段和x波段新型强流带状电子注成形、聚焦和传输等技术的研究工作。建立了全三维的模拟与仿真方法,设计了W波段百千瓦级和X波段百兆瓦级的电子光学系统。研制完成的w波段带状电子注束管,采用永磁Wiggler聚焦方式,带状注宽高比25:1,初步测试表明,在工作电压60kV,工作电流2.6A,传输距离50mm时,直流通过率达到了55%左右。X波段带状电子注束管,采用PCM聚焦方式,带状注宽高比12.5:1,束流功率100MW,导流系数1.97uP,目前已经完成了密封束管的研制,正在进行高压测试工作。
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