无论在工业生产，还是在日常生活中，“界面”无处不在.虽然界面科学研究已经走过了两百多年的历史，但是它依然是当今最重要的科学研究领域.通过有效的方法来控制和调节界面的物理和化学性质是界面科学的重要发展方向.由于高分子科学的发展，具有不同功能的高分子不断被合成出来，高分子经常被用于制备具有不同性质的界面.为了对高分子界面的性质进行控制，必须对其性质尤其是动态行为进行表征.在过去的几十年中，一些新的界面表征技术已经发展起来，包括表面等离子体共振仪，椭圆率偏振光测量仪，原子力显微镜，朗缪尔天平，和频振动光谱，等等.然而，这些表征手段提供的信息仍然有限.特别是单一使用时，有的只能给出界面上高分子层的厚度信息，有的只能提供界面上高分子的结构信息.而且，不同手段获得的结果还经常相互矛盾.频率-耗散联用型石英晶体微天平是近年发展起来的一项新的技术，由于它能够同时实时检测界面上有关高分子的质量和结构变化，因而能够为描述和理解界面特别是固/液界面上高分子的行为提供有用的信息.本文介绍了QCM-D的基本原理及其在高分子科学中的若干应用.