【摘 要】
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采用热丝化学气相沉积（HFCVD）法，在Mo、Ti、Re 及Mo-Re合金四种薄片基体上沉积了厚度为300nm 左右的金刚石薄膜。利用场发射扫描电子显微镜（SEM），拉曼光谱（Raman）和X射线衍射（XRD）
【机 构】
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中南大学材料科学与工程学院，湖南长沙 410083
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采用热丝化学气相沉积（HFCVD）法，在Mo、Ti、Re 及Mo-Re合金四种薄片基体上沉积了厚度为300nm 左右的金刚石薄膜。利用场发射扫描电子显微镜（SEM），拉曼光谱（Raman）和X射线衍射（XRD）对样品表面形貌和织构进行分析检测。讨论了金属碳化物过渡层对金刚石薄膜形核生长的影响。实验结果表明： 对上述基体来说，除了密排结构的金属Re外，Mo、Mo-Re和Ti基体上均生成了金属碳化物过渡层。所有基体上都得到了均匀形核的纳米级金刚石薄膜，并发现存在二次形核现象。
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