【摘 要】
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基于超导/铁磁/超导(SFS)等结构的约瑟夫森结是当前制备超导存储器的主流方案，因此制备高质量的超导薄膜及铁磁势垒层是超导铁磁约瑟夫森结的材料基础。我们采用直流磁控溅射方法在Si(100)和MgO(100)两种衬底上分别制备NbN/NiCu/NbN三层膜，通过原子力显微镜(AFM)、X射线衍射(XRD)等手段研究了溅射工艺参数对每层膜微结构特征的影响；通过X射线光电子能谱(XPS)分析了NiCu化
【机 构】
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中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室,上海200050;上海科技大学,上海200031
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基于超导/铁磁/超导(SFS)等结构的约瑟夫森结是当前制备超导存储器的主流方案，因此制备高质量的超导薄膜及铁磁势垒层是超导铁磁约瑟夫森结的材料基础。我们采用直流磁控溅射方法在Si(100)和MgO(100)两种衬底上分别制备NbN/NiCu/NbN三层膜，通过原子力显微镜(AFM)、X射线衍射(XRD)等手段研究了溅射工艺参数对每层膜微结构特征的影响；通过X射线光电子能谱(XPS)分析了NiCu化学计量比；利用MPMS磁学测量系统研究了NiCu势垒层的磁学性能；采用紫外曝光、反应离子束刻蚀、离子束刻蚀等微纳加工工艺成功制备出SFS约瑟夫森结，并对两种衬底上不同结区面积大小的SFS结的I-V特性进行了研究。
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