论文部分内容阅读
本文采用射频磁控溅射方法在Si (001)基片上和金刚石衬底上沉积了Zn0薄膜，研究了氢氧比和退火温度对Zn0薄膜微观结构及性能的影响，分析对比了Si基底和金刚石基底对Zn0薄膜结晶质量的影响。利用X射线衍射分析(XRD)和原子粒(力)显微镜(AFM)对不同条件下生长的Zn0薄膜结构、形貌和界面状态进行了表征和分析。其中晶格取向由XRD测得，表面形貌由AFM测得。