对Ｓｉ〈，３〉Ｎ〈，４〉结构瓷材料进行了研究Ｓｉ〈，３〉Ｎ〈，４〉－Ｙ〈，２〉Ｏ〈，３〉－Ａｌ〈，２〉Ｏ〈，３〉－ＳｉＣｗ、Ｓｉ〈，３〉Ｎ〈，４〉－Ｙ〈，２〉Ｏ〈，３〉－Ｌａ〈，２〉Ｏ〈，３〉、Ｓｉ〈，３〉Ｎ〈，４〉－Ｙ〈，２〉Ｏ〈，３〉－Ｌａ〈，２〉Ｏ〈，３〉－ＳｉＣｗ、Ｓｉ〈，３〉Ｎ〈，４〉＋ＴＺＰ等种组份的材料，及其室温弯曲强度和断裂韧性以及１３５０℃的弯曲强度和１０００℃的断裂韧性对比情况。将由陶瓷涂层保护的ＧＨ３９合金、ＳｉＣｗ（ｆ）／Ｓｉ〈，３〉Ｎ〈，４〉、Ｓｉ〈，３〉Ｎ〈，４〉－Ｙ〈，２〉Ｏ〈，３〉－Ｌａ〈，２〉Ｏ〈，３〉等种材料在１１００￣１１５０℃，进行了１￣２００ｈ的抗氧化性能比较。还讨论了氮化硅陶瓷的增韧机理及氧化钇和氧化镧添加剂的引入对氮化硅陶瓷性能和显微结构的影响。