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在制作微透镜阵列时,光刻过程是采用连续浮雕方式.因此,其光刻设备在满足一般光刻要求的基础上,还应具备曝光时间和步进距离均可连续调节的步进扫描曝光功能.本文介绍了科学院光电所研制的URE-2000D型光刻机控制系统的结构组成及控制软件设计,对连续浮雕步进扫描控制原理及其功能实现予以了重点讨论.
连续浮雕步进扫描控制研究
【摘 要】
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在制作微透镜阵列时,光刻过程是采用连续浮雕方式.因此,其光刻设备在满足一般光刻要求的基础上,还应具备曝光时间和步进距离均可连续调节的步进扫描曝光功能.本文介绍了科学
【机 构】
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中国科学院光电技术研究所(成都)
【出 处】
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第十一届全国电子束、离子束、光子束学术年会
【发表日期】
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2001年期
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