Atomic Level Structural and Polar Modulations at Charged Domain Walls in Ferroelectric Films

来源 :The 23rd International Workshop on Oxide Electronics (第23届国际 | 被引量 : 0次 | 上传用户：neilakw

【作者】

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【机构】

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ShenyangNationalLaboratoryforMaterialsScience,InstituteofMetalResearch,ChineseAcademyofSciences,Shen

【出处】

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The 23rd International Workshop on Oxide Electronics (第23届国际

【发表日期】

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2016年10期

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