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根据全方位离子注入(PSII)工业样机实验和应用的需要,由等效电流磁场计算法获得的数据结果,设计了一种平面磁控溅射靶。并利用此平面磁控靶在一定的Ar、 N<,2>气体分压及不同电流、电压条件下,成功地制备出金黄色氮化钛薄膜,并利用台阶轮廓仪测量了TiN薄膜的沉积速率,表明该靶TiN薄膜的沉积速率能满足增强沉积TiN涂层的需要。