射频磁控溅射法制备透明导电薄膜

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本文报道了采用陶瓷靶射频磁控溅射方法,在7059玻璃及P型硅片上制备了太阳电池用窗口层材料(ITO)及背反射器绒面ZnO材料,给出了工艺条件的优化结果。获得的ITO 薄膜的方块电阻随着沉积温度的上升而降低;随功率上升从最低值上升而后降低到最低值;随反应气压变化先上升然后下降;平均透射率保持在80%左右,当衬底温度200℃,气压0.2Pa,功率为200W 时沉积的ITO 膜的方块电阻最低。而绒面ZnO 材料的方块电阻随衬底温度、功率、工作气压的增加单调降低。当衬底温度为220℃,压力0.2Pa,功率为400W 时得到的绒面ZnO 电阻率最低,达到10-4Ωcm,平均反射率达到20﹪左右,X 射线衍射谱(XRD)显示为单一的(002)取向。采用背反射结构太阳电池的电流比不采用背反射结构的电流要大。
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