近年来,智能型响应聚合物以其独特的对光,温度,pH,磁场等敏感而受到人们的关注。自从1986 年,Petlon 等[1]首次提出了用微凝胶乳液制备具有温度敏感的PNIPAM 聚合物(其中采用NIPAM 为单体,MBA 为交联剂,过硫酸钾为引发剂),使温敏响应聚合物得到了飞速的发展。目前智能响应系统的应用主要是在药物控制释放,分离萃取及仿生催化等领域。而将分子印迹技术与智能响应聚合物结合,制备出分子印迹智能印迹系统,不仅可以实现对特定分子的选择性识别,而且可以通过控制响应条件自动识别控制或释放特定分子。通过表面分子印迹技术,用新的温敏聚合物作为壳和CdS/HNTs 为核,自组装成一种新型的温敏响应表面分子印迹催化剂[2]。分子印迹聚合层为光催化剂提供了对目标污染物分子识别能力,形成对目标物的的选择性降解。同时,表面印迹光催化剂的光催化活性能通过改变环境温度来调节。此外,这种新的温敏响应表面分子印迹的光催化剂的光催化活性经过三次重复利用后,仍具有很高的活性(见图1)。