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本文概要介绍了离子镀、磁控溅射、离子束辅助沉积和复合沉积技术的原理和优缺点，并指出了这些技术近年在制各硬质涂层的发展。
物理气相沉积硬质涂层技术及进展
【摘 要】
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本文概要介绍了离子镀、磁控溅射、离子束辅助沉积和复合沉积技术的原理和优缺点，并指出了这些技术近年在制各硬质涂层的发展。
【机 构】
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核工业西南物理研究院,四川 成都 610041
【出 处】
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第九次全国热处理大会
【发表日期】
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2007年期
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