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直流电弧等离子体是一种接近热力学平衡的等离子体，气体温度和离化率都非常之高，因此作为金刚石膜化学气相沉积的活化源有其独特的优势，可实现大面积高质量金刚石膜的高速沉积。本文综述了北京科技大学在直流电弧等离子体喷射(DC Arc Plasma Jet)CVD金刚石膜沉积系统研制和改进及大面积高质量(包括光学级)金刚石自支撑膜沉积的研究进展和产业化状况。基于同样的技术，还研发出了可用于复杂形状硬质合金工具金刚石膜涂层工具批量生产的强电流直流伸展电弧等离子体CVD金刚石膜涂层系统。讨论了利用这一设备研发金刚石膜涂层硬质合金工具，及其现场切削试验的结果。