二氧化碳激光雕刻借助牺牲层用以快速,廉价制作小轨道尺寸及轨道边缘凸起的微流控芯片

来源 :2016全国生命分析化学学术大会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:l441060226
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  现今,随着微流控系统的发展,越来越多的聚合材料被应用于微流控芯片的制作.由二氧化碳激光雕刻制作出来的芯片对于分析领域而言,轨道尺寸较大,且目前能够应用于激光雕刻的材料受到了限制.此外,激光雕刻过程中产生的轨道边缘凸起将会严重影响芯片粘合的效果.针对二氧化碳激光雕刻技术现存的不足,本文介绍了一种新的方法用以减小轨道的尺寸和轨道边缘凸起.通过应用此方法,不仅仅是PMMA,PC,PS,PFA或是PDMS都能被用于芯片的制作.常规方式下在PMMA板上雕刻的轨道,最小的轨道宽度是178.3微米,如借助一个牺牲层,芯片轨道宽度可以减小至39.8微米,轨道边缘凸起高度起也由9.2微米减小至2.1微米.并且对于其它聚合材料,轨道宽度及轨道边缘凸起高度均有减小.文章中应用的价值600美元的二氧化碳激光系统以及小于1小时的芯片制作周期适用于大多数的实验室.介电电泳分离实验用于验证此方法的可行性和微流控芯片的实用性.
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