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本文探索了双光子敏化聚合反应的途径,需要应用具有高双光子吸收截面的染料,为此设计和合成了光敏染料(DMAD)和双咪唑型引发剂(HPIA),生成的引发自由基,有较高的暗保存性.
高性能光聚合型光折变记录体系的研究
【摘 要】
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本文探索了双光子敏化聚合反应的途径,需要应用具有高双光子吸收截面的染料,为此设计和合成了光敏染料(DMAD)和双咪唑型引发剂(HPIA),生成的引发自由基,有较高的暗保存性.
【机 构】
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中国科学院理化技术研究所
【出 处】
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第十二届全国光化学学术讨论会
【发表日期】
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2001年期
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