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2005年，Furubayashi等采用脉冲激光沉积(PLD)法研制了锐钛矿相(Anatase)的Nb掺杂TiO2(Nb：TiO2)薄膜。他们发现，Nb的掺入导致了此种薄膜的电学性质较纯TiO2薄膜有很大的提高，而且其光学性能亦佳。这使得Nb：TiO2薄膜成为制备透明导电氧化物(TCO)材料的重要原料。为了澄清量子受限效应与B-M效应对薄膜带隙所产生的影响，笔者采用PLD法制备了一批不同厚度的、锐钦矿相的纯Ti02薄膜，通过自组装外延技术控制其颗粒尺寸和形状，系统地研究了Ti02纳米薄膜的光学性质与其量子受限尺寸的关系，并由透射谱计算出吸收系数及其能隙Eg。另一方面，亦采用相同的方法研制了一批不同厚度的、不同Nb掺杂浓度的Nb:Ti02薄膜，并研究了其带隙变化。