【摘 要】
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本文利用磁控溅射技术设计合成了AlN/ZrB2纳米多层膜。通过XRD、表面轮廓仪及纳米力学测试系统研究了调制周期对多层膜微结构和力学性能的影响。结果表明：多层膜的界面清晰,调
【机 构】
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天津师范大学,物理与电子信息学院,天津,300074
【出 处】
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二〇〇八全国功能材料科技与产业高层论坛
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本文利用磁控溅射技术设计合成了AlN/ZrB2纳米多层膜。通过XRD、表面轮廓仪及纳米力学测试系统研究了调制周期对多层膜微结构和力学性能的影响。结果表明：多层膜的界面清晰,调制周期性好,在调制周期为30nm时,薄膜显示出很强的AlN(100)、ZrB2(001)与ZrB2(100)择优取向和较弱的ZrB2(101)与AlN(102)织构。多层膜的硬度和弹性模量在25～40nm调制周期内均明显高于组成多层膜的单质薄膜的平均值,最大硬度达到32.5GPa，多层膜的机械性能改善明显与其调制结构和多晶结构有着直接的联系。
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