Ce3+注入掺杂金刚石薄膜电致发光研究

来源 :第十七届全国原子、原子核物理研讨会暨全国近代物理研究会第十届年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户：cwy198783

【摘要】

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利用微波等离子体化学气相沉积设备在高掺杂硅衬底上沉积一层金刚石薄膜,然后采用离子注入法在金刚石薄膜中注入不同剂量的从而制备出了Ce3+掺杂金刚石薄膜,研究了其电致发光

【作者】

：

王小平张雷段新超王丽军王隆洋雷通吕承瑞

【机构】

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上海理工大学理学院上海,200093

【出处】

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第十七届全国原子、原子核物理研讨会暨全国近代物理研究会第十届年会

【发表日期】

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2008年7期

【关键词】

：

掺杂金刚石薄膜电致发光离子注入法微波等离子体化学气相沉积

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利用微波等离子体化学气相沉积设备在高掺杂硅衬底上沉积一层金刚石薄膜,然后采用离子注入法在金刚石薄膜中注入不同剂量的从而制备出了Ce3+掺杂金刚石薄膜,研究了其电致发光特性,得到了发光主峰位于蓝紫区(476nm和435nm处)的光发射.实验中发现随着Ce3+注入剂量的增加,电致发光强度也随之增加,同时对这些实验现象作了解释.

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